ASML的光刻机里有中国零件吗？为什么会受制于美
目前顶尖的光刻机只有荷兰的ASML公司能够生产，那么在其光刻机里有没有中国的零件呢？肯定还是有的，但只是一般性的零件，并没有重要的或者说不可替代的部件。既然光刻机是荷兰生产的，与美国有什么关系，为什么又会受到美国影响呢？
一、我国半导体受制于高端光刻机在芯片的产业链环节中，至为重要的一环就是芯片生产，又叫晶圆代工，目前全球晶圆代工前五名是台积电、三星、格芯、联电、中芯国际。
台积电、联电是台湾的，三星是韩国的，格芯是美国的，而中芯国际是中国内地的，从国产化的方面来看，现在中芯国际代表了国内晶圆代工的最高水平，但芯芯国际的市场份额与台积电、三星等公司依然有明显的差距。
除了市场份额的差距外，技术工艺也存在差距。台积电与三星已经可以批量代工5NM的芯片，而中芯国际在去年刚刚实现14NM制程的量产，现在正在加紧研发7NM芯片工艺，随着中芯国际14NM芯片技术的不断成熟，华为也将大量的14NM芯片代工订单转至中芯国际，给予大力的支持。
但问题是7NM以上的工艺用DUV光刻机就可以生产，而7NM以下的工艺需要用引入极紫外光（EUV）光刻技术，而目前全球只有荷兰的ASML公司能生产EUV光刻机，中芯国际在2018年就从ASML订购了一台EUV，由于美国从中作梗，因种种原因，直到现在都还没有交货。
中国其实也有光刻机，但是技术与ASML的差距还是比较大的，目前中国目前性能最好、已成熟商业化运用、具备完全自主知识产权的量产化光刻机产品，仍然停留在90nm水准，也就是上海微电子的SSA600/20型90nm光刻机。
在2018年底，国内在22NM光刻机的光源上取得了突破，但ASML的7nm极紫外光源模组的成本是3000万美元，而国产22nm所需紫外光源仍是汞灯，成本仅数万元。差距还是明显的，在真正的高端光刻机方面还需进一步研发突破。
而在极此外光EUV光刻机方面，目前全球只有荷兰的ASML公司能够制造，而台积电、三星公司则是ASML长期客户，这使得他们的晶圆代工业务能够保持领先，包括苹果的最新A系列芯片、华为及高通的最新高端芯片，都是台积电代工生产的。
为什么EUV光刻机那么难造？
ASML是EUV光刻机的系统集成商，这套设备集成了全球数百家公司的技术，拥有超过5万多个零部件，许多零件都是非常复杂的。
ASML在研发EUV光刻机时，得到了Intel、三星及台积电等厂商的大力支持，再加上DUV业务利润的支撑，最终历经10年，才从EUV光刻机上赚到钱了。
在产业链上，ASML的EUV光刻机80%部件并非自产，大部分的部件都来自于欧美各个国家，这些发达国家互通有无，将最先进的技术及材料卖给荷兰，才能促成EUV光刻机的诞生。
那么EUV光刻机是荷兰ASML公司生产的，为什么又会受到美国限制呢？
这是因为，美国为了打压中国高科技领域的企业，美国商务部出台了“实体名单”，限制含美国技术的产品和技术向中国出口。，而ASML的EUV光刻机使用的是全世界各国的5万多个零部件，其中主要是欧美国家，其中使用美国的技术和部件比例超过20%。所以美国可以从中作梗，阻挠ASML向中国供货。
ASML的EUV光刻机里有没有中国的零件呢？肯定是有的，中国是全球主要制造业大国，电子商业链的很多零件都是生产的，但关键是中国的零件属于一般性零件，并非不可替代，即便是不用中国生产的，也可以用其他国家生产的，但是如果不用美国的技术或零件，ASML的EUV就无法完成工作。
我国的半导体行未来要想获得长期健康发展，在多个关键领域都需要实现国家化，目前来看，在芯片设计方面，我国已有海思等实力强大的公司，在生产环节已经有中芯国际这样的强大企业，在封测端则有华天、通富等全球十大封测公司，但在高端光刻机方面，依然需要不断突破，因为在很长时间内，我们是无法融入以美国为首的利益集团的，随时都可能被人卡脖子。
