光刻机巨头ASML扩大中国无锡基地，中芯国际订的

荷兰ASML是全球最先进的光刻机公司，此次有媒体报道其在中国无锡办厂，着实让大家兴奋了一下。不过，其实ASML只不过是扩大无锡的服务中心，而不是在中国设厂，更不是在中国生产光刻机，高管表态重视中国市场，这只是一种辞令，全世界所有国家都会重视中国市场，因为中国有14亿人，已成为全球第二大消费市场。

芯片产业链由三个环节组成，分别是设计，生产，封装。

在设计环节，诂要是芯片的架构，在传统芯片方面，一般采用英特尔和AMD的架构，移动芯片方面，则采用了精简指令以节约功效，全世界的移动芯片有90%以上是采用英国ARM公司的架构。我国在芯片设计方面，其实已经达到国际先进水平，比如华为海思的移动芯片，性能已经可以和苹果、高通相抗衡。

在芯片封测方面，我国的通富微电、华天科技，都在全球十大封测公司之列，市场份额在全球已经保持领先，不过封测环节本身技术含量并不是太高，相关企业的毛利率与净利润也比较低，只要碰上半导体需求下降，很容易发生亏损。

另外就是中间的生产环节，也就是我们常说的晶圆代工，目前全球晶圆代工主要是中国台湾的台积电和韩国的三星公司，但近些年，中国的中芯国际发展迅速，已经成为全球十大晶圆代工企业，同时也是中国国内最大的晶圆代工企业。

中芯国际在晶圆代工工艺上也不断获得突破，去年已成功量产14nm芯片，虽然台积电5nm米工业仍有很大差距，但我们已经看到了确确实实的进步，在美国对华为步步紧逼的打压这下，关键时刻，中芯国际向华为抛出了橄榄枝，作为我国芯片领域的大量知名企业，很快便达成了合作。

经过不断的研发，如今中芯国际再次宣布已经具备了成熟的7纳米芯片生产技术，预计在今年年底就能够实现量产，如此飞跃式的进步，不得不让我们对这一小企业刮目相看。但是说到这里，一个关键的问题出来了，虽然我国已经有了成熟的工艺技术，但生产芯片需要光刻机，这成最大的难点。

中国并不是没有光刻机，这些年中国科学家们也在不断进行研发，相关政策支持，也有很多产业资本介入，我国已经研发并生产出了自己的光刻机，但主要是集中在中低端光刻机，对于高端光刻机，现在确实还有些无能为力。

现在DUV光刻机是目前大量应用的光刻机，波长是193nm，光源是ArF（氟化氩）准分子激光器，但是到了7nm这个节点已经的DUV光刻的极限，所以Intel、三星和台积电都会在7nm这个节点引入极紫外光（EUV）光刻技术，而GlobalFoundries当年也曾经研究过7nm EUV工艺，只不过现在已经放弃了。

而全球能生产EUV的公司，目前只有荷兰ASML公司，包括台积电、三星公司生产7nm芯片都是从ASML公司购买的EUV光刻机，EUV光刻机售价达到1.2亿美元一台，虽然价格昂贵，但晶圆企业也不得不买。中芯国际之前从ASML公司订购了一台EUV光刻机，但因为种种原因，直到现在仍未交货。

此次ASML在无锡扩建技术服务基地，至少说明其与中国的合作在进一步加深，希望在此次疫情结束之后，中芯国际从ASML公司订购的EUV光刻机能尽快交付，这样才能继续为未来5nm甚至3nm的技术工艺积累经验，进一步推动我国半导体行业的发展。